VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik Mikrosystem- und Feinwerktechnik (GMM) (Hrsg.)

GMM-Fb. 92: Mikro-Nano-Integration

Beiträge des 7. GMM-Workshops, 22. - 23. Oktober 2018 in Dortmund

GMM-Fachberichte

2018, 92 Seiten, Slimlinebox, CD-Rom
ISBN 978-3-8007-4789-4
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Inhaltsverzeichnis Vorwort

Nanostrukturen, die in Mikrosysteme integriert werden können, liefern wichtige Beiträge, indem sie
• neue Funktionen ermöglichen,
• Sensoren empfindlicher oder selektiver werden lassen,
• den Energiebedarf senken,
• und bei der Systemintegration und der AVT helfen.

Für die industrielle Nutzung sind aber wichtige Schritte notwendig:
• Wie werden Nanostrukturen im Mikrosystem umgesetzt?
• Wie stabil sind sie unter realen Einsatzbedingungen?
• Wie können Nanostrukturen im Mikrosystem charakterisiert und ihre Qualität sichergestellt werden?
• Wie können die Chancen der Mikro-Nano-Integration Kunden und Mitarbeitern vermittelt werden?

Der Workshop ist ideal für die Präsentation von Lösungsansätzen und zur Diskussion neuer Ideen auf diesem Gebiet.
Wir adressieren uns mit unserem 7. GMM-Workshop Mikro-Nano-Integration sowohl an Forscher und Anwender aus Wirtschaft und Wissenschaft, als auch an Anlagenhersteller und Prozessanbieter, die neuartige Produktionskonzepte für die Mikro-Nano-Integration vorstellen.
Für Ihr Unternehmen bietet der Workshop eine exzellente Gelegenheit, mit zukünftigen Kooperationspartnern in Kontakt zu treten.
Der Workshop lässt viel Zeit für die Diskussion und bietet zahlreiche inspirierende Vorträge aus Forschung und Industrie.
Die GMM hat die Aufgabe, die wissenschaftliche und technische Entwicklung im Bereich der Mikroelektronik, Mikrosystem-, Nano- und Feinwerktechnik sowie deren breite Anwendungen zu fördern.
Sie initiiert den dazu erforderlichen Dialog zwischen Herstellern, Anwendern und Wissenschaft und bildet ein Forum für Diskussionen über diese Techniken in der Öffentlichkeit. Die GMM vertritt die Belange der in ihr vertretenen Arbeits- und Fachgebiete gegenüber politischen Entscheidungsträgern und bringt ihre Fachkompetenz in die Gestaltung der Förderpolitik ein.

1

Penetrating nanoelectrodes for an electrical cell interface on CMOS ASIC

Autoren: Allani, S.; Jupe, A.; Utz, A.; Schaal, C.; Rustom, A.; Kappert, H.; Vogt, H.

2

Fluorescent E-beam and Photolithographic Resists for Upconversion

Autoren: Kaiser, Christian; Schirmer, Matthias; Mai, Tobias; Gerngross, Maik; Steglich, Thomas; Kumke, Michael; Steffen, Marita

3

Adding CNT-based functionality to MEMS: A technology demonstration for strain and IR sensors on wafer scale

Autoren: Boettger, Simon; Bonitz, Jens; Kini, Mandar; Schulz, Stefan E.; Hermann, Sascha

4

Rapid Micro-Nano-Integration of Single Silicon Nanowires in 2D-Sensor Arrays using Automated Software Tools

Autoren: Roos, Michael M.; Huffert, Thomas; Puchinger, Anouk; Strehle, Steffen

5

New concept for post-CMOS pellistor integration

Autoren: Muenchenberger, Finja M.; Dreiner, Stefan; Kappert, Holger; Vogt, Holger

6

Analysis and Simulation of Super-Hydrophobic Layers for Microfluidic Applications

Autoren: Tuerk, Semih; Jupe, Andreas; Viga, Reinhard; Vogt, Holger

7

Electrochemical Deposition of Reactive Material Systems for Assembly and Packaging Applications

Autoren: Hertel, Silvia; Schulte, Wiebke; Weiser, Mathias; Becker, Mike; Wiemer, Maik; Otto, Thomas

8

9

10

Mesoscopic Optics

Autoren: Kreismann, Jakob; Behrens, Arne; Weigel, Christoph; Sinzinger, Stefan; Hentschel, Martina; Yang, Lan

11

Combining top-down bottom-up lithographic and galvanic manufacturing techniques for the generation of dynamic and reversible surfaces

Autoren: Kehagias, N.; Lamprakou, Z.; Guttmann, M.; Winkler, F.; Francone, A.; Fernandez, A.; Chamakos, N. T.; Papathanasiou, A. G.; Sotomayor Torres, C. M.

12

Y2O3 sol-gel passivation layer for solution-processed metal-oxide thin-film transistors

Autoren: Subasi, Ersoy; Boysen, Nils; Mai, Lukas; Pham, Duy-Vu; Bock, Claudia; Devi, Anjana; Kunze, Ulrich

13

Thin film ALD materials as functional layer for 3D-integrated metal oxide gas-sensors

Autoren: Knauss, A. M.; Muenchenberger, F. M.; Dietz, D.; Jupe, A.; Kappert, H.; Vogt, H.

14

Fabrication of polymeric micro-optical components with integrated nano-topography for advanced photonic applications

Autoren: Wolf, J.; Gruetzner, S.; Ferstl, M.; Lawal, J.; Schleunitz, A.; Gruetzner, G.

15

Performance Analysis of CuO Nanoparticle-Based Thin-Film Transistors

Autoren: Reker, J.; Meyers, T.; Petrov, D.; Vidor, F. F.; Hilleringmann, U.

16

Effective conversion processes of metal-oxide precursors for the reduction of the conversion temperature in solution processed metal-oxide thin-film transistors

Autoren: Bock, Claudia; Subasi, Ersoy; Kasischke, Maren; Pham, Duy-Vu; Xiao, Shizhou; Du, Keming; Ostendorf, Andreas; Kunze, Ulrich

17

Influence of the electrode material on the performance of BTBT-based thin-film transistors

Autoren: Meyers, Thorsten; Reker, Julia; Petrov, Dmitry; Vidor, Fabio F.; Hilleringmann, Ulrich

18

Anwendungen ionenspur-geätzter Polymermembranen in der Mikro-Nano-Integration

Autoren: Schlaak, H. F.; Wick, K.; Khoury, M. El; Bieker, J.; Quednau, S.