Schichtdickenmessungen an ultradicken Mehrschicht-Mikrostrukturen

Abstract:
Mikrostrukturierte Bauteile werden immer mehr zu Massenprodukten, so dass Fragen der Qualitätssicherung eine zunehmend größere Bedeutung erlangen. Auf der Basis eines neuen lichtoptischen Verfahrens wurde ein Messgerät entwickelt und in der Praxis erprobt, das für die einfache zerstörungsfreie Vermessung von Mikrostrukturen und von transparenten Schichten sehr gut geeignet ist. Die Schichtdickenmessung von ca. 1 mm ultradicken Fotoresistschichten auf unstrukturierten spiegelnden Goldoberflächen wurde demonstriert. Ebenso wurde an gedeckelten Mikrofluidikchips nachgewiesen, dass auch Mehrschichtsysteme, die aus mehreren jeweils mehr als hundert µm dicken transparenten Einzelschichten bestehen, vermessen werden können.