Schichtdickenmessungen an ultradicken Mehrschicht-Mikrostrukturen
Conference: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2009
10/12/2009 - 10/14/2009 at Berlin
Proceedings: MikroSystemTechnik
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Engelke, R. (micro resist technology GmbH, Köpenicker Str. 325, 12555 Berlin)
Richter, U. (Sentech Instruments GmbH, Carl-Scheele-Str. 16, 12489 Berlin)
Abstract:
Mikrostrukturierte Bauteile werden immer mehr zu Massenprodukten, so dass Fragen der Qualitätssicherung eine zunehmend größere Bedeutung erlangen. Auf der Basis eines neuen lichtoptischen Verfahrens wurde ein Messgerät entwickelt und in der Praxis erprobt, das für die einfache zerstörungsfreie Vermessung von Mikrostrukturen und von transparenten Schichten sehr gut geeignet ist. Die Schichtdickenmessung von ca. 1 mm ultradicken Fotoresistschichten auf unstrukturierten spiegelnden Goldoberflächen wurde demonstriert. Ebenso wurde an gedeckelten Mikrofluidikchips nachgewiesen, dass auch Mehrschichtsysteme, die aus mehreren jeweils mehr als hundert µm dicken transparenten Einzelschichten bestehen, vermessen werden können.