Untersuchung zur selbst-organisierten Nanomaskierung in zyklischen Tiefenätzprozessen für die reproduzierbare Erzeugung von nanostrukturiertem Silicium

Abstract:
Es werden Ergebnisse material- und prozessanalytischer Untersuchungen zur Bildung und Beeinflussung der selbstorganisierten Nanomaskierung in zyklischen Tiefenätzprozessen von Silicium vorgestellt. Sie dienen dazu das Verständnis über den Entstehungsprozess von nanostrukturiertem Silicium zu vertiefen, um den Prozess gezielt beeinflussen zu können. Es wird gezeigt, dass mittels einer Prozessregelung durch optische Emissionsspektroskopie eine reproduzierbare und kontrollierte Herstellung unterschiedlicher Nanostrukturen erreicht werden kann. In einer systematischen Prozessanalyse werden die Prozessparameter Passivierungszeit, ICP Leistung und Bias-Leistung variiert und damit eine Änderung der Morphologie der Nanomaskierung erreicht. Es wird eine Dichte der Nanomaskierung von 13 bis 37 µm^-2 erzielt. Dies zeigt das Spektrum erzeugbarer Geometrien.