Variable Prozessierung von gassensitivem Chrom-Titan-Oxid mittels neuartigem Inkjet-Abscheideverfahren
Conference: Sensoren und Messsysteme 2010 - 15. ITG/GMA-Fachtagung
05/18/2010 - 05/19/2010 at Nürnberg
Proceedings: Sensoren und Messsysteme 2010
Pages: 7Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Kneer, Janosch; Peter, Carolin; Wöllenstein, Jürgen (Fraunhofer Institut für Physikalische Messtechnik - IPM, Heidenhofstr. 8, 79110 Freiburg, Deutschland)
Kneer, Janosch; Wöllenstein, Jürgen (Albert-Ludwig Universität Freiburg, Institut für Mikrosystemtechnik - IMTEK, Georges-Köhler-Allee 106, 79110 Freiburg, Deutschland)
Abstract:
Ein Abscheideverfahren, basierend auf Inkjet-Technik, wurde für die Herstellung gassensitiver Chrom-Titan-Oxid (Cr2-xTixO3+z, CTO) Schichten entwickelt. Eine stabile Dispersion, die CTO Partikel in definierter Größe trägt, wurde in ihren rheologischen Eigenschaften für das Drucken abgestimmt. Sorgsame Evaluation von Druckerparametern für zuverlässigen und reproduzierbaren Druck ermöglichten Schichterzeugung in variierbarem Layout. Prototypen wurden aufgebaut und gassensitives Verhalten und die Detektion spezifischer Gase konnte gezeigt werden. Korrelationen zwischen Schichtlayout und Sensorresponse waren feststellbar. Freistehende Strukturen und die poröse Morphologie ermöglichen hochsensitives Sensorverhalten.