DLC-Beschichtung auf SU-8-Fotoresist für piezoresistive Anwendungen in der Kraftsensorik
Conference: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10/10/2011 - 10/12/2011 at Darmstadt, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Jordan, Alexa; Büttgenbach, Stephanus (Technische Universität Braunschweig, Institut für Mikrotechnik, Braunschweig, Deutschland)
Petersen, Mirjana; Klages, Claus-Peter (Technische Universität Braunschweig, Institut für Oberflächentechnik, Braunschweig, Deutschland)
Bandorf, Ralf; Klages, Claus-Peter (Fraunhofer Institut für Schicht- und Oberflächentechnik, Braunschweig, Deutschland)
Abstract:
In diesem Beitrag wird die Herstellung und Charakterisierung von DLC-Schichten für die Anwendung als piezoresistive Elemente in dreidimensionalen Kraftsensoren vorgestellt. Als Verformungselement wird eine Boss-Membran eingesetzt, an die über einen Taststift die angreifende Kraft übertragen wird. Da die Empfindlichkeit eines Kraftsensors im Wesentlichen von den Materialeigenschaften des Membranmaterials, hier dem Fotoresist SU-8, sowie von der Dehnungsempfindlichkeit der piezoresistiven Elemente abhängt, stehen diese im Vordergrund der Untersuchungen.