Einsatz von integrierten Nanostrukturen in Mikrosystemen

Abstract:
Mit Ionenspurätzverfahren zur Herstellung hochparalleler Mikro- und Nanoporen und anschließender galvanischer Abformung lassen sich reproduzierbar metallische Mikro- und Nanodrahtarrays mit parallelen, zylindrischen, langen Drähten fertigen. Diese Arbeit stellt Fortschritte des Verfahrens zur Integration vertikal auf dem Substrat orientierter Drahtarrays in Mikrosysteme sowie damit realisierte Strukturen vor. Das Verfahren basiert auf PVD (Physical Vapour Deposition), UV-Lithographie, Heißlamination, galvanischer Abformung sowie Lösungsmittel- und Sauerstoff-Plasmabasierten Polymerentfernungsprozessen. Die Drahtarrays mit bis zu 100 µm Drahtlänge können mit hoher Kantenschärfe und freier mit einer minimalen Strukturweite von 30 µm integriert werden. Eine von den Drahtarrays getragene Mikrostrukturebene erweitert die Einsatzszenarien der integrierten Nanostrukturen in verschiedenen Mikrosystemen.