Modellierung und Evaluierung von Standardzellen in FinFET-Technologie
Conference: Zuverlässigkeit und Entwurf - 7. ITG/GI/GMM-Fachtagung
09/24/2013 - 09/26/2013 at Dresden, Deutschland
Proceedings: Zuverlässigkeit und Entwurf
Pages: 8Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Kleeberger, Veit B.; Gräb, Helmut; Schlichtmann, Ulf (Lehrstuhl für Entwurfsautomatisierung, Technische Universität München, 80333 München, Deutschland)
Abstract:
Mit zunehmender Integrationsdichte wird es immer schwieriger, zuverlässige Schaltungen zu fertigen. Frühzeitige Technologie- und Entwurfsexploration kann helfen, Variationsquellen und deren Einfluss auf Schaltungseigenschaften zu bewerten. Mit jeder neuen Technologiegeneration müssen Basisblöcke der Schaltung neu dimensioniert werden, um diese optimal an die gegebene Technologie anzupassen. Diese Arbeit stellt hierfür einen Ansatz vor, welcher in der Lage ist, die optimale Dimensionierung solcher Schaltungsblöcke unter dem Einfluss von Prozessvariation zu bestimmen. Anschließend wird damit der Einfluss von Skalierung und Prozessvariation in zukünftigen FinFET-basierten Technologien bewertet.