Verbesserter Herstellungsprozess für dreidimensionale mikromechanische Sensoren aus SU-8-Fotoresist
Conference: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
10/14/2013 - 10/16/2013 at Aachen, Deutschland
Proceedings: Mikrosystemtechnik 2013
Pages: 3Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Oerke, Alexa; Büttgenbach, Stephanus; Dietzel, Andreas (Technische Universität Braunschweig, Institut für Mikrotechnik (IMT), Braunschweig, Deutschland)
Abstract:
Die technologischen Fortschritte im Bereich der Mikro- und Nanofertigung für MEMS verlangen Messtechnik auf höchstem Niveau, insbesondere im Hinblick auf Präzision und Empfindlichkeit. Zu diesem Zweck werden am IMT hochempfindliche piezoresistive dreidimensionale Mikrokraftsensoren aus SU-8-Fotoresist für die taktile Oberflächenvermessung entwickelt. Im Rahmen der vorgestellten Arbeit wird ein verbesserter Herstellungsprozess für die dreidimensionalen mikromechanischen Sensoren mit doppelseitiger Strukturierung präsentiert. Die SU-8- Sensorstrukturen werden mittels UV-Lithographie und Beschichtungstechniken in Mehrlagentechnik prozessiert. Für die Entwicklung des Herstellungsprozesses wurde, ausgehend von Opferschichten für planare Strukturen, die Beschichtung einer Masterform im PECVD-Verfahren optimiert.