Variation des intrinsischen Stressgradienten dünner Aluminiumnitridschichten
Conference: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
10/14/2013 - 10/16/2013 at Aachen, Deutschland
Proceedings: Mikrosystemtechnik 2013
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Mehner, H.; Leopold, S.; Hoffmann, M. (IMN MacroNano® der Technischen Universität Ilmenau, Fachgebiet Mikromechanische Systeme, 98684 Ilmenau, Deutschland)
Abstract:
Im Rahmen des Beitrags wird die Variation des intrinsischen Stressgradienten in reaktiv gesputterten Aluminiumnitridschichten (AlN) vorgestellt. Erstmals werden Prozessparameter identifiziert, deren gezielte Veränderung während des Sputterprozesses dazu dient, den Stressgradienten dünner AlN-Schichten direkt im Prozess einzustellen. Als wesentliche Parameter werden das Gasflussverhältnis der beiden Sputtergase Argon (Ar) und Stickstoff (N2) sowie die Sputterleistung präsentiert. Sowohl die Erzeugung großer positiver bzw. negativer als auch die Kompensation des intrinsischen Stressgradienten werden mittels freigestellter einseitig eingespannter Mikrobalken gezeigt. Darüber hinaus wird der Einfluss eines nachfolgenden Temperschritts auf den Stressgradienten in einer AlN-Schicht untersucht.