Energiefilter für Ionenimplantation
Conference: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
10/14/2013 - 10/16/2013 at Aachen, Deutschland
Proceedings: Mikrosystemtechnik 2013
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Krippendorf, Florian; Csato, Constantin; Bischof, Tina; Gupta, Sandeep; Han, Weiqi; Nobst, Michael; Schewior, Andre; Rüb, Michael (Ernst-Abbe-Fachhochschule Jena, Carl-Zeiss-Promenade 2, 07745 Jena, Deutschland)
Morgenroth, Wolfgang (Institut für Photonische Technologien e.V., Albert-Einstein-Straße 9 (Beutenberg Campus), 07745 Jena, Deutschland)
Ronning, Carsten; Wesch, Werner (Friedrich-Schiller-Universität Jena, Institut für Festkörperphysik, Max-Wien-Platz 1, 07743 Jena, Deutschland)
Rupp, Roland (Infineon Technologies AG, Am Campeon 1-12, 85579 Neubiberg, Deutschland)
Abstract:
In dieser Arbeit wird ein Energiefilter für die Ionenimplantation vorgestellt. Dieser kann vorteilhaft für die Herstellung von SiC-Leistungsdioden verwendet werden, welche z.B. in Solarkonvertern eingesetzt werden. Der Filter besteht aus einer mikrostrukturierten Si-Membran. Die Funktion des Filters basiert auf der gezielten Manipulation des Implantationsprofiles monoenergetischer Ionenstrahlen. Das entwickelte Herstellungsverfahren erlaubt die Realisierung einer großen Filterfläche bei kleiner Dicke des Filters. Dies sorgt für eine hohe Effizienz bei der Implantation. Die laterale Homogenität bei der Implantation wird nachgewiesen – ebenso wie die Möglichkeit der lithografischen Abbildung der Mikrostruktur. Das entstandene Implantationsprofil wird gemessen und damit die Funktionalität des Filters nachgewiesen.