Tintenstrahldruck ermöglicht eine maskenfreie strukturierte Mikrogalvanik zur Herstellung von miniaturisierten Spulen

Conference: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
10/26/2015 - 10/28/2015 at Karlsruhe, Deutschland

Proceedings: MikroSystemTechnik 2015

Pages: 3Language: germanTyp: PDF

Personal VDE Members are entitled to a 10% discount on this title

Authors:
Meissner, Markus V.; Spengler, Nils; Mager, Dario; Korvink, Jan G. (Institut für Mikrosystemtechnik (IMTEK), Albert-Ludwigs-Universität Freiburg und Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie)

Abstract:
Tintenstrahldruck ist als direkte, tröpfchenbasierte Abscheidungstechnik von leitfähigen Nanopartikeln für die Herstellung von Magnetspulen insbesondere bei kostengünstigen und Einweganwendungen interessant, bei welchen Verarbeitungsaufwand und Materialverbrauch minimiert werden müssen. Wir zeigen einen neuartigen Mikrogalvanikprozess basierend auf gedruckten leitfähigen Strukturen. In diesem Prozess werden Formen für die Galvanotechnik in fotostrukturierbarem Epoxy-Lack mittels Rückseitenlithographie strukturiert. Die gedruckten Strukturen dienen damit selbst sowohl als lithografische Maske für die Herstellung der Galvanoform als auch zusätzlich als Startschicht für die Elektroplattierung. Unser Verfahren ist insbesondere für die Herstellung von miniaturisierten, planaren Magnetresonanz Sende- und Empfangs-, Shim- und Gradientenspulen geeignet.