Verwendung von Schattenmasken zur Direktstrukturierung individuell adaptierbarer Sensorik auf technischen Oberflächen
Conference: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
10/26/2015 - 10/28/2015 at Karlsruhe, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik 2015
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Klaas, D.; Rittinger, J.; Taptimthong, P.; Wurz, M. C.; Rissing, L. (Institut für Mikroproduktionstechnik, Produktionstechnisches Zentrum Hannover, Leibniz Universität Hannover, An der Universität 2, 30823 Garbsen, Deutschland)
Düsing, J. F. (Laser Zentrum Hannover e.V., Hollerithallee 8, 30419 Hannover, Deutschland)
Abstract:
Im Rahmen des Sonderforschungsbereiches 653 wird am Institut für Mikroproduktionstechnik (IMPT) der Leibniz Universität Hannover eine Technologie entwickelt, die eine Abscheidung und Strukturierung von Sensorik direkt auf technischen Oberflächen ermöglicht. In diesem Beitrag wird auf die Herausforderungen bei der Fertigung lasergeschnittener Schattenmasken und damit strukturierter Dünnschichten eingegangen. Jene Herausforderungen werden anschließend bewertet und Lösungsansätze vorgestellt. Im Mittelpunkt stehen die Reduktion von Geometrieabweichungen der Masken durch eine Verbesserung des Laserfertigungsprozesses sowie die Reduktion des Abstandes zwischen Maske und Substrat. Zum Schluss wird ein optimiertes Maskenfixierungskonzept vorgestellt, bewertet und ein Ausblick auf zukünftige Forschungsfragen gegeben.