ALD-basierte, monolithisch integrierte 3D-Nanostrukturen
Conference: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
10/26/2015 - 10/28/2015 at Karlsruhe, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik 2015
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
Personal VDE Members are entitled to a 10% discount on this title
Authors:
Jupe, A.; Goehlich, A.; Feizi, K.; Vogt, H. (Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS, Finkenstr. 61, 47057 Duisburg, Deutschland)
Abstract:
Das Fraunhofer IMS hat auf Basis von DRIE und ALD einen Post-CMOS-Prozess entwickelt, der zur Herstellung von 3d-Strukturen genutzt werden kann. Als Beispiel dieser Technologie werden Multi-Elektroden-Arrays (MEA) mit einem Ruthenium-Nano-Rasen für biomedizinische Anwendungen vorgestellt.