Ablenkeinheit mit vergrabenen Wolframelektroden für die Multi-Elektronenstrahllithografie
Conference: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
10/26/2015 - 10/28/2015 at Karlsruhe, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik 2015
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Jurisch, M.; Irmscher, M.; Letzkus, F. (Institut für Mikroelektronik Stuttgart, Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Deutschland)
Abstract:
In dieser Veröffentlichung wird ein Verfahren vorgestellt, bei dem durch Einsatz von CMOS-kompatiblen Waferprozessen vergrabene Wolframelektroden in einer Ablenkplatte hergestellt werden. Diese Elektroden ermöglichen es, mehr als 256.000 Elektronenstrahlen in einem Multi-Elektronenstrahlschreiber zur Photomaskenherstellung individuell abzulenken und zu steuern. Der entwickelte Fertigungsprozess wird detailliert vorgestellt und die technologischen Herausforderungen sowie die Vorteile dieser Prozessvariante hervorgehoben. Zusätzlich werden die elektrischen und elektronenoptischen Ergebnisse eines solchen Ablenksystems vorgestellt und diskutiert.