Einfluss von Substrattemperatur und Bias-Spannung auf die Eigenschaften von gesputterten AlN Dünnfilmen für BAWs
Conference: MikroSystemTechnik 2019 - Kongress
10/28/2019 - 10/30/2019 at Berlin, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik Kongress 2019
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Schneider, Michael; Weißenbach, Josef; Schmid, Ulrich (Institut für Sensor- und Aktuatorsysteme, TU Wien, Gußhausstr. 27-29, Vienna, Austria)
Abstract:
In dieser Arbeit wurde der Einfluss der Substrattemperatur und der Biasspannung während der reaktiven Sputterabscheidung auf die Eigenschaften von Aluminiumnitrid-Dünnfilmen für Anwendungen in BAW Bauelementen untersucht. Wir zeigen, dass höhere Substrattemperaturen von bis zu 400 °C zu Dünnschichten mit verbesserten kristallografischen Eigenschaften und glatteren Oberflächen führen. Darüber hinaus ermöglicht das Anlegen erhöhter Biasspannungen während der Abscheidung den Schichtstress über einen weiten Bereich anzupassen.