Fertigungstechnologie zur Herstellung von Silizium basierten MEMS-Schaltern

Conference: MikroSystemTechnik 2019 - Kongress
10/28/2019 - 10/30/2019 at Berlin, Deutschland

Proceedings: MikroSystemTechnik Kongress 2019

Pages: 4Language: germanTyp: PDF

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Authors:
Schwarz, Markus; Lambrecht, Franziska (Siemens Corporate Technology, München, Deutschland)
Seidel, Helmut (Universität des Saarlandes, Lehrstuhl für Mikromechanik, Mikrofluidik/Mikroaktorik, Saarbrücken, Deutschland)

Abstract:
Für den Einsatz von MEMS-Schaltern in Leistungsanwendungen ist es erforderlich eine matrixartige Verschaltung vieler einzelner MEMS-Schalteinheiten zu realisieren. Um eine gleichbleibende Performanz der einzelnen Schalter, die das Array darstellen, zu gewährleisten, werden höchste Anforderungen an den Herstellungsprozess gestellt. Wir präsentieren das Design und die Herstellung eines MEMS-Schalters auf Basis einer Silicon-on-Insulator (SOI)-Fertigungstechnologie. Die Messergebnisse zeigen eine hohe Übereinstimmung mit den Simulationen, was die Vorhersagbarkeit und damit die Homogenität von SOI-basierten MEMS-Schalter bestätigt.