Herstellung nano-skalierter Gassensoren unter Verwendung neuer Metalloxid-ALD-Precursormaterialien
Conference: MikroSystemTechnik 2019 - Kongress
10/28/2019 - 10/30/2019 at Berlin, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik Kongress 2019
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Knauß, Anna M.; Dietz, Dorothee; Jupe, Andreas; Kappert, Holger (Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS, Finkenstr. 61, 47057 Duisburg, Deutschland)
Vogt, Holger (Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS, Finkenstr. 61, 47057 Duisburg, Deutschland & Universität Duisburg-Essen, Elektronische Bauelemente und Schaltungen, 47057 Duisburg, Deutschland)
Mai, Lukas; Devi, Anjana (Ruhr-Universität Bochum, Chemie Anorganischer Materialien, Universitätsstr. 150, 44801 Bochum, Deutschland)
Abstract:
Im Kontext der Miniaturisierung von Gassensoren bietet die Fabrikation von Metalloxidnanodrähten die Möglichkeit der Integration dieser auf CMOS-Chips (CMOS: engl. für complementary metal oxide semiconductor). Dies ermöglicht den weitläufigen Einsatz von Mikrosensoren zur Überwachung unserer Umgebung hinsichtlich gesundheitsgefährdender Gase. Neue ALD-Precursormaterialien (ALD: engl. für atomic layer deposition) und deren minimale Schichtdicke besitzen das Potenzial für hohe Sensitivität und Selektivität der Sensoren und stellen einen Fortschritt für Mikrosensoren in der Industrie 4.0 dar. Die Machbarkeit solcher freistehenden 3D-Nanodrahtstrukturen und eines ebenso strukturierten Heizers, hergestellt in einem Mikrosystemtechnikreinraum, konnte demonstriert werden.