Neue Laser für die industrielle Mikromaterialbearbeitung
Conference: Mikrosystemtechnik Kongress 2005 - Mikrosystemtechnik Kongress 2005
10/10/2005 - 10/12/2005 at Munich, Germany
Proceedings: Mikrosystemtechnik Kongress 2005
Pages: 2Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Weiler, Sascha; Stollhof, Jürgen (TRUMPF Laser GmbH + Co. KG, Schramberg, Deutschland)
Abstract:
In der Mikrotechnik spielen thermische Einflüsse während der Bearbeitung eine besondere Rolle. Laserstrahlquellen für die Mikrobearbeitung (z.B. in der Photovoltaik) müssen daher besondere Eigenschaften vorweisen: beugungsbegrenzte Strahlqualität für optimale Fokussierbarkeit, kurze Pulse für eine minimale Wärmeeinflusszone und höchste Stabilität für Präzision im Mikrometerbereich. Speziell für diese Anforderungen wurde im Hause TRUMPF eine neue Laserserie entwickelt.