Entwicklung und Charakterisierung eines Prozesses zur Herstellung von Mikrolinsen mittels Lithographie, RIE und UV-Abformung
                  Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2009
                  12.10.2009 - 14.10.2009 in Berlin              
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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            Autoren:
                          Moser, Dominik; Heinrich, Marina; Schuster, Christine; Klukowska, Anna; Schmidt, Andreas (micro resist technology GmbH, Berlin, Deutschland)
                      
              Inhalt:
              Diese Arbeit beschreibt einen Prozess zur Herstellung von Mikrolinsen durch Photolithographie, thermisches Aufschmelzen von Photoresist und anschließender Übertragung der Strukturen mittels reaktivem Ionenätzen (RIE) in ein Substrat oder durch UV-Abformung in ein organisch-anorganisches Hybridpolymer. Diese Prozesskette erlaubt die Herstellung von Hybridpolymer-Formen aus Silizium- oder Photoresiststrukturen sowie die Übertragung dieser Strukturen durch eine weitere UV-Abformung wiederum in ein Hybridpolymer. Die Materialklasse der Hybridpolymere bietet dabei im Vergleich zu rein organischen Polymeren, wie sie in der Mikrooptik häufig eingesetzt werden, sehr gute optische Eigenschaften bei gleichzeitig höherer mechanischer und thermischer Beständigkeit.            

