Plasmagestützte Oberflächenmodifizierung in fluidischen Systemen mit gedeckelten Kavitäten

Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2009
12.10.2009 - 14.10.2009 in Berlin

Tagungsband: MikroSystemTechnik

Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF

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Autoren:
Eichler, Marko; Thomas, Michael; Klages, Claus-Peter (Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, 38108 Braunschweig, Deutschland)

Inhalt:
Mit Hilfe von Atmosphärendruck-Plasmen wurden gedeckelte fluidische Kanäle innenbeschichtet. Aufgrund der geringen freien Weglänge der Elektronen im Sub-Mikrometerbereich bei Atmosphärendruck, können mittels Dielektrischer Barrierenentladung in kleinen Volumina, welche typisch für fluidische Systeme sind, Plasmen gezündet werden. Die Oberflächeneigenschaften als auch die Abscheidekinetik können durch Variation der Plasmaparameter direkt beeinflusst werden. In diesem Beitrag werden Schichtprofile in Abhängigkeit von verschiedenen Parametern diskutiert, und es wird die Abscheidekinetik verschiedener Prekursoren verglichen. Für die Untersuchungen wurden verschiedene Kanalstrukturen gefertigt, welche die Bestimmung der Schichtdicke erlauben.