Hochauflösende Metrologie für die Mikro-Nanointegration

Inhalt:
Die Mikrosystemtechnik ist zu einem der wesentlichen Innovationsmotoren für eine Vielzahl von Produkt- und Wirtschaftsbereichen geworden. Die stetig steigenden Ansprüche an Funktion und Leistung entsprechender Produkte können dabei zukünftig mit Hilfe systemischer Integration von Nanotechnologien erfüllt werden. Ungeachtet dessen werden auch in Zukunft hohe Anforderungen an die Qualität und Zuverlässigkeit entsprechender Systemlösungen bestehen bleiben, wobei infolge neuartiger Materialsysteme und Fertigungstechnologien mit ebenso neuartigen Fehlermechanismen gerechnet werden muss, welche durch geeignete Verfahren zu detektieren und physikalisch zu analysieren sind. Hierfür ist es zwingend erforderlich Methoden und Prozeduren zu entwickelt, welche in Kombination mit einer adäquaten Zielpräparation die hochauflösende Materialcharakterisierung im Nanometerbereich ermöglichen. Im Rahmen der vorliegenden Arbeit werden die Möglichkeiten hochauflösender Strukturanalyse auf Basis elektronen- und ionenoptischer Mikroskopie exemplarisch demonstriert und ihr Potential für die hochauflösende Metrologie zukünftiger Anwendungsfelder aufgezeigt.