Vergleich mikroskopischer Verfahren zur Messung der Topographie technischer Oberflächen

Konferenz: Sensoren und Messsysteme 2010 - 15. ITG/GMA-Fachtagung
18.05.2010 - 19.05.2010 in Nürnberg

Tagungsband: Sensoren und Messsysteme 2010

Seiten: 5Sprache: DeutschTyp: PDF

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Autoren:
Imkamp, Dietrich (Carl Zeiss Industrielle Messtechnik, Oberkochen, Deutschland)
Melber, Hagen Magnus; Böttinger, Wolf-Ulrich; Huep, Wolfgang (Hochschule für Technik, Stuttgart, Deutschland)

Inhalt:
Die Verbreitung optischer Messverfahren zur Erfassung der Oberflächentopographie nimmt zu. Besonders bei empfindlichen Oberflächen finden diese Verfahren Anwendung, weil sie berührungslos messen und daher die Oberfläche nicht beschädigen. Ein weiterer Grund für ihren Einsatz ist die Schnelligkeit der Messung, die jedoch nicht immer wirksam wird, was in diesem Beitrag gezeigt wird. Den Schwerpunkt dieses Beitrags bildet der Vergleich der optischen Verfahren mit den Ergebnissen taktiler Messverfahren anhand verschiedener Oberflächen aus der industriellen Produktion. Für den Vergleich werden gebräuchliche Kenngrößen der Oberflächenmesstechnik und grafische Darstellungen verwendet. Dabei wird auch gezeigt, wie durch eine geeignete Auswertung optische und taktile Messungen vergleichbare Ergebnisse liefern.