Einbettung von plasmonischen Elementen in photonische Kristall-Resonatoren für Licht-Materiekopplung
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
Persönliche VDE-Mitglieder erhalten auf diesen Artikel 10% Rabatt
Autoren:
Schoengen, M.; Nüsse, N.; Probst, J.; Löchel, B. (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH, Institut für Nanometeroptik und Technologie (G-I5), Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Deutschland)
Kronast, F. (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH, Abteilung für Magnetisierungsdynamik (M-A1), Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Deutschland)
Barth, M.; Wolters, J.; Benson, O. (Humboldt-Universität zu Berlin, Institut für Physik, AG Nano-Optik, Newtonstr. 15, 12489 Berlin, Deutschland)
Inhalt:
Dieser Beitrag behandelt die Herstellung und Charakterisierung von photonischen Kristall-Kavitäten sowie die Einbettung von plasmonischen Elementen zur Licht-Materiekopplung in diese Strukturen. Wir stellen eine Herstellungsmethode für Hybridstrukturen vor, die wir in früheren Studien bereits postuliert haben. Es handelt sich hierbei um die Einbettung von Goldstrukturen mittels Overlaybelichtung bei der Elektronenstrahllithographie in Siliziumnitrid-Kristall-Resonatoren. Hierbei schaffen wir Positionierungsgenauigkeiten unter unserer Nachweisgrenze von unter 1nm, sowie eine Strukturgenauigkeit von unter 25nm. Diese plasmonisch-photonischen Hybridstrukturen wurden mittels Photoemissionselektronenmikroskopie untersucht und zeigten ein nichtlineares Verhalten.