LIGA - Neues von Tiefenlithographie und Abformung
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
Persönliche VDE-Mitglieder erhalten auf diesen Artikel 10% Rabatt
Autoren:
Schulz, Joachim; Mohr, Juergen; Worgull, Matthias (Karlsruher Institut für Technologie, Postfach 3640, 76021 Karlsruhe, Deutschland)
Lemke, Stephanie (Helmholtz-Zentrum Berlin, Albert-Einstein-Strasse 15, 12489 Berlin, Deutschland)
Schulz, Joachim; Walter, Marco (microworks GmbH, Schnetzlerstr. 9, 76137 Karlsruhe, Deutschland)
Voigt, Anja (micro resist technology GmbH, Koepenicker Str. 325, Haus 1, 12555 Berlin, Deutschland)
Inhalt:
Dieser Beitrag gibt eine Übersicht über neuere Entwicklungen rund um die LIGA-Technik. Im Zusammenhang mit Röntgen-LIGA werden die Potentiale eines neuen Resists (mr-X) und neuer Maskentechniken gestreift. Neuere Entwicklungen aus der Abformung wie Tiefziehen und Heißziehen werden erwähnt. Zum Schluss wird auf das große Potential der Röntgen-Phasenkontrastmethode für LIGA eingegangen. Microworks sieht hier und in der systematischen Verfolgung von Kostenreduktion und beschleunigter Umsetzung von Idee in Prototypen und Produkte eine Chance für Röntgen-LIGA.