Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Utz, A.; Gendrisch, L.; Brögger, D.; Weiler, D.; Vogt, H. (Fraunhofer Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme (IMS), Finkenstraße 61, 47057 Duisburg, Deutschland)
Inhalt:
Als erstes Unternehmen in Deutschland und eines von wenigen europaweit entwickelt und produziert das Fraunhofer IMS auf Mikrobolometern basierende ungekühlte infrarot focal plane arrays (IRFPAs). Diese IRFPAs nutzen den Fern-Infrarot Wellenlängenbereich von 8 bis 14 µm zur Bilderzeugung. Neben den neuen Herausforderungen an den Produktionsprozess solcher Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) ergeben sich gleichzeitig neue Anforderungen an das die Produktion begleitende Testkonzept. Das Testkonzept des Fraunhofer IMS wird in diesem Artikel behandelt.