SiO2 Membransysteme zur Abstimmung von photonischen SOI-Wellenleitern
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Amthor, Julia; Horn, Oliver; Savov, Angel; Müller, Jörg (TU Hamburg- Harburg, Institut für Mikrosystemtechnik E-7, Eißendorfer Straße 42, 21073 Hamburg, Deutschland)
Lipka, Timo
Inhalt:
Im Rahmen dieser Arbeit wird die Herstellung von SiO2-Membransystemen zur Abstimmung von photonischen SOI-Wellenleitern vorgestellt. Es werden zwei Verfahren zur Herstellung der freistehenden Membransysteme gezeigt, wobei der Schwerpunkt auf einen neuartigen Herstellungsprozess eines Membransystems mit geradem Übergang zwischen Membran und Substrat gelegt wird. Die Wellenleiter werden mittels DUV-Kontaktlithographie und anschließender Schrumpfung und Glättung in einem thermischen Oxidationsprozess gefertigt. Ein 10 mW thermo-optischer Schalter wurde so realisiert und der elasto-optische Effekt gezeigt.