Experimentelle Untersuchung und theoretische Betrachtung zur gravimetrisch kontrollierten IR-Trocknung dicker SU-8-Schichten
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Schönfeld, Maik; Saupe, Jens; Aßmann, Heiko; Cappek, Manfred; Grimm, Jürgen (AG Mikrosystemtechnik, Westsächsische Hochschule Zwickau, Dr.-Friedrichs-Ring 2a, 08056 Zwickau, Deutschland)
Vogel, Jürgen (AG Experimentelle Mechanik, Westsächsische Hochschule Zwickau, Dr.-Friedrichs-Ring 2a, 08056 Zwickau, Deutschland)
Lemke, Stephanie; Löchel, Bernd (Helmholtz-Zentrum Berlin, Abteilung Mikro- und Nanostrukturierte Optische Systeme, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Deutschland)
Inhalt:
Epoxidharz-basierte Photoresistsysteme finden in der Mikrosystemtechnik neben dem Einsatz als Resist im Fertigungsprozess (z. B. LIGA) auch als Werkstoff zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente, wie bspw. Cantileversensoren im Umweltmonitoring Anwendung. Das definierte Trocknen (Soft Bake) der Resistschichten übt einen wesentlichen Einfluss auf die Qualität der lithographisch erzeugten Strukturen aus. Es wurde ein alternatives Infrarot-Trocknungsverfahren zur herkömmlichen Resisttrocknung auf Hotplates erarbeitet, getestet und erfolgreich bei der Verarbeitung dicker Resistschichten eingesetzt. Diese innovative Trocknungsmethode ermöglicht die in-situ Überwachung des Trocknungsvorganges der Resistschicht. Eine theoretische Einteilung der einzelnen Trocknungsabschnitte und eine Herleitung eines Fit-Modells aus dem 2. Fickschen Gesetz werden dargestellt.