Lokales Mikroschweißen als post-process Technologie zur permanen-ten Reduzierung des Elektrodenabstandes von HARMS

Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland

Tagungsband: MikroSystemTechnik

Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF

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Autoren:
Nowack, Markus; Reuter, Danny; Bertz, Andreas (TU Chemnitz, Zentrum für Mikrotechnologien, Chemnitz, Deutschland)
Leidich, Stefan; Kurth, Steffen; Küchler, Matthias; Gessner, Thomas (Fraunhofer ENAS, Chemnitz, Deutschland)

Inhalt:
Dieser Beitrag beschreibt eine neuartige post-process Technologie zur permanenten Reduzierung des Elektrodenabstandes von HARMS. Zur Durchführung der Reduzierung des Elektrodenabstandes wird die bewegliche Mikrostruktur mittels elektrostatischer Kraft ausgelenkt. Im Gegensatz zu anderen Lösungsansätzen wird zur Fixierung des reduzierten Elektrodenabstandes ein lokales Mikroschweißen verwendet. Im Rahmen des Beitrages wird die Technologie zur Herstellung, das Funktionsprinzip des Zustellmechanismus sowie der experimentelle Aufbau präsentiert. Durch das verwendete Verfahren konnte der Elektrodenabstand von ursprünglich 4500 nm auf 385 nm reduziert werden, wodurch ein Aspektverhältnis von 150 resultiert.