Simulation und Layoutautomatisierung von optischen Nanostruktu-ren in CMOS-Prozessen
Konferenz: ANALOG '11 - 12. GMM/ITG-Fachtagung
07.11.2011 - 09.11.2011 in Erlangen, Deutschland
Tagungsband: ANALOG '11
Seiten: 6Sprache: EnglischTyp: PDF
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Autoren:
Verwaal, Nanko; Junger, Stephan; Tschekalinskij, Wladimir; Weber, Norbert (Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen IIS, Am Wolfsmantel 33, 91058 Erlangen, Deutschland)
Inhalt:
Moderne CMOS-Prozesse ermöglichen die Herstellung strukturierter Metallschichten mit spektral selektiven und polarisationsselektiven Eigenschaften für sichtbares Licht. Mit Hilfe solcher sog. "optischer Nanostrukturen" können Multispektralsensoren und Polarisationssensoren sowie erweiterte Arten von Bildsensoren kostengünstig hergestellt werden. Die Forschung an optischen Nanostrukturen wird beschleunigt durch Finite Difference Time Domain Simulation und durch eine automatisierte Layouterzeugung. Die experimentellen Ergebnisse belegen die Realisierbarkeit von Farb- und Polarisationsfiltern.