MEMS-Testeinrichtung für die Wafer-Level-Charakterisierung von integrierten Kohlenstoffnanoröhren

Konferenz: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
14.10.2013 - 16.10.2013 in Aachen, Deutschland

Tagungsband: Mikrosystemtechnik 2013

Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF

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Autoren:
Shaporin, A.; Voigt, S.; Bonitz, J.; Hermann, S.; Hartmann, S.; Kaufmann, C.; Mehner, J.; Schulz, S. E.; Wunderle, B. (Technische Universität Chemnitz, 09126 Chemnitz, Deutschland)
Gessner, T. (Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme, 09126 Chemnitz, Deutschland)

Inhalt:
Eine MEMS-Testeinrichtung für die Wafer-Level-Charakterisierung von integrierten Kohlenstoffnanoröhren wurde entworfen, gefertigt und charakterisiert. Durch das Zusammenspiel eines elektrostatischen Aktors, eines kapazitiven Sensors sowie eines Vergrößerungszeigers ist es möglich, weggesteuerte Zugversuche an Nanoröhren aufzunehmen. Der Nanozugversuch hat einen Wegmessbereich von 500 nm bei einer Auflösung von ca. 1 nm.