Verbesserter Herstellungsprozess für dreidimensionale mikromechanische Sensoren aus SU-8-Fotoresist
Konferenz: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
14.10.2013 - 16.10.2013 in Aachen, Deutschland
Tagungsband: Mikrosystemtechnik 2013
Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Oerke, Alexa; Büttgenbach, Stephanus; Dietzel, Andreas (Technische Universität Braunschweig, Institut für Mikrotechnik (IMT), Braunschweig, Deutschland)
Inhalt:
Die technologischen Fortschritte im Bereich der Mikro- und Nanofertigung für MEMS verlangen Messtechnik auf höchstem Niveau, insbesondere im Hinblick auf Präzision und Empfindlichkeit. Zu diesem Zweck werden am IMT hochempfindliche piezoresistive dreidimensionale Mikrokraftsensoren aus SU-8-Fotoresist für die taktile Oberflächenvermessung entwickelt. Im Rahmen der vorgestellten Arbeit wird ein verbesserter Herstellungsprozess für die dreidimensionalen mikromechanischen Sensoren mit doppelseitiger Strukturierung präsentiert. Die SU-8- Sensorstrukturen werden mittels UV-Lithographie und Beschichtungstechniken in Mehrlagentechnik prozessiert. Für die Entwicklung des Herstellungsprozesses wurde, ausgehend von Opferschichten für planare Strukturen, die Beschichtung einer Masterform im PECVD-Verfahren optimiert.