120° Doppelspiegel aus Silizium für den Einsatz in einem MOEMS-Gyroskop
Konferenz: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
14.10.2013 - 16.10.2013 in Aachen, Deutschland
Tagungsband: Mikrosystemtechnik 2013
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Niesel, Thalke; Dietzel, Andreas (Institut für Mikrotechnik der TU Braunschweig, Braunschweig, Deutschland)
Inhalt:
In diesem Beitrag wird die Entwicklung von 120Grad-Doppelspiegeln, für die Verwendung in einem MEMS-Ring-Laser-Gyroskop beschrieben. Ausgehend von den funktionalen Anforderungen und dem optischen Design des Gyroskops werden alle wichtigen Prozess- und Fertigungsschritte der Spiegelelemente beschrieben. Für die Herstellung dieser Spiegel werden (100) Siliziumwafer verwendet, die um 5,3Grad in (110)-Ebene gekippt sind und daher beim nasschemischen KOH-Ätzen eine Ätzflanke von exakt 60Grad erreichen. Es wird eine 36%ige KOH-Lösung mit Zugabe von Isopropylalkohol (IPA) verwendet, um gleichmäßige und glatte Ätzflanken zu erhalten. Zwei derartig strukturierte Wafer werden durch Siliziumdirektbonden verbunden und anschließend in kleine Spiegelelemente zersägt, um sie anschließend in dem Gyroskop zu montieren. Zur Verbesserung der Reflexionseigenschaften können die Spiegel mit einer Metallbeschichtung versehen werden.