Fertigung laminarer optischer Gitter am HZB
Konferenz: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
14.10.2013 - 16.10.2013 in Aachen, Deutschland
Tagungsband: Mikrosystemtechnik 2013
Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Lemke, Stephanie; Seliger, Tino; Naß, Christopher; Göttert, Philipp; Rudolph, Ivo; Kutz, Oliver; Gwalt, Grzegorz; Senf, Fridmar; Löchel, Bernd (Institut für Nanometeroptik und Technologie, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH, Berlin, Deutschland)
Nelles, Bruno (DIOS GmbH, Bad Münstereiffel, Deutschland)
Inhalt:
Laminare optische Gitter stellen höchste Anforderungen an die mikrosystemtechnische Fertigung der Mikro- und Nanostrukturen in Hinsicht auf Präzision und Homogenität. Im Rahmen des EU-Projektes „Aufbau eines Technologiezentrums für hocheffiziente optische Präzisionsgitter am Helmholtz-Zentrum Berlin (HZB)“ (EFRE Vertrag Nr. 20072013 2/43) [1,2] wurden die für die Herstellung von laminaren und geblazten Gittern notwendigen Anlagen in Betrieb genommen. Gleichzeitig wurde mit der Prozessentwicklung begonnen. In diesem Artikel werden die neuesten Prozessergebnisse von durch Laserinterferenzlithographie (LIL) in Photoresist erzeugter Gitterstrukturen und deren nur wenige Nanometer tiefe Übertragung in Siliziumsubstrate mittels Ionenstrahlätzen vorgestellt.