ALD-basierte, monolithisch integrierte 3D-Nanostrukturen
Konferenz: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
26.10.2015 - 28.10.2015 in Karlsruhe, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik 2015
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Jupe, A.; Goehlich, A.; Feizi, K.; Vogt, H. (Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS, Finkenstr. 61, 47057 Duisburg, Deutschland)
Inhalt:
Das Fraunhofer IMS hat auf Basis von DRIE und ALD einen Post-CMOS-Prozess entwickelt, der zur Herstellung von 3d-Strukturen genutzt werden kann. Als Beispiel dieser Technologie werden Multi-Elektroden-Arrays (MEA) mit einem Ruthenium-Nano-Rasen für biomedizinische Anwendungen vorgestellt.