Ablenkeinheit mit vergrabenen Wolframelektroden für die Multi-Elektronenstrahllithografie
Konferenz: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
26.10.2015 - 28.10.2015 in Karlsruhe, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik 2015
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
Persönliche VDE-Mitglieder erhalten auf diesen Artikel 10% Rabatt
Autoren:
Jurisch, M.; Irmscher, M.; Letzkus, F. (Institut für Mikroelektronik Stuttgart, Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Deutschland)
Inhalt:
In dieser Veröffentlichung wird ein Verfahren vorgestellt, bei dem durch Einsatz von CMOS-kompatiblen Waferprozessen vergrabene Wolframelektroden in einer Ablenkplatte hergestellt werden. Diese Elektroden ermöglichen es, mehr als 256.000 Elektronenstrahlen in einem Multi-Elektronenstrahlschreiber zur Photomaskenherstellung individuell abzulenken und zu steuern. Der entwickelte Fertigungsprozess wird detailliert vorgestellt und die technologischen Herausforderungen sowie die Vorteile dieser Prozessvariante hervorgehoben. Zusätzlich werden die elektrischen und elektronenoptischen Ergebnisse eines solchen Ablenksystems vorgestellt und diskutiert.