Einfluss molekularer Freiheitsgrade auf das Dämpfungsverhalten von Mikrooszillatoren im molekularen Strömungsbereich
Konferenz: MikroSystemTechnik 2019 - Kongress
28.10.2019 - 30.10.2019 in Berlin, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik Kongress 2019
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Zengerle, Tobias; Schwarz, Patrick; Bauer, Karin; Seidel, Helmut (Lehrstuhl für Mikromechanik, Mikrofluidik/Mikroaktorik, Universität des Saarlandes, 66123 Saarbrücken, Deutschland)
Joppich, Julian (Lehrstuhl für Messtechnik, Universität des Saarlandes, 66123 Saarbrücken, Deutschland)
Ababneh, Abdallah (Electronic Engineering Dept., Hijjawi Faculty for Engineering Tech., Yarmouk University, Jordan)
Inhalt:
Diese Arbeit untersucht das druckabhängige Dämpfungsverhalten auf mikromechanische Oszillatoren im Bereich der molekularen Strömung. Im Besonderen wird im Rahmen der Arbeit die abstandsabhängige Dämpfung für Edelgase und mehratomige Gase erforscht. Hierbei wird in der Nähe des Oszillators eine Platte parallel im Abstand von 150 - 3500 µm platziert und der Unterschied aufgrund rotatorischer und vibratorischer Freiheitsgrade diskutiert. Die Ergebnisse der Dämpfungsmessungen zeigen dabei einen signifikanten Einfluss der Freiheitsgrade der mehratomigen Gase. Mittels dieser Messungen sind Rückschlüsse auf das Aktivierungsverhalten molekularer Freiheitsgrade möglich und es lassen sich die Relaxationszeiten und Stoßzahlen der rotatorischen und vibratorischen Freiheitsgrade experimentell bestimmen.