Wieder entfernbarer Negativresist für die Mikrosystemtechnik
Konferenz: Mikrosystemtechnik Kongress 2005 - Mikrosystemtechnik Kongress 2005
10.10.2005 - 12.10.2005 in Munich, Germany
Tagungsband: Mikrosystemtechnik Kongress 2005
Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Schirmer, Matthias (Allresist GmbH, Strausberg, Deutschland)
Inhalt:
In diesem Beitrag wird der neu entwickelte Negativresist CAR 44 für die Mikrosystemtechnik vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus bedeutende Vorteile. Hervorzuheben ist vor allem die leichte Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen. Damit eröffnen sich völlig neue Anwendungsmöglichkeiten in der Mikrosystemtechnik.