Vollständige Prozesskette zur Herstellung von Nickel- Formeinsätzen auf Basis von 6 Zoll Si-Wafern mit Hilfe der UVLithographie und des Resistsystems EPON SU-8

Konferenz: Mikrosystemtechnik Kongress 2005 - Mikrosystemtechnik Kongress 2005
10.10.2005 - 12.10.2005 in Munich, Germany

Tagungsband: Mikrosystemtechnik Kongress 2005

Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF

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Autoren:
Hein, Herbert; Guttmann, Markus; Wilson, Sandra (Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Deutschland)
Johnigk, Carsten (Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen, Deutschland)

Inhalt:
Die Prozesskette zur Herstellung von Nickel-Formeinsätzen für das Heißprägen oder Spritzgießen basiert auf 6 Zoll Si-Wafern, die durch UV-Lithographie mit dem Resist EPON SU-8 strukturiert und anschließend mit Ni galvanisiert werden. Das Strippen des hochvernetzten SU-8 erfolgt durch Laserablation, deren Prozessführung zusammen mit der Fraunhofergesellschaft-ILT entwickelt wurde. Die Spezifikationen der Formeinsätze orientieren sich an einer im Auftrag des Forschungszentrums Karlsruhe durchgeführten Marktstudie aus dem Jahr 2004/2004. Die Herstellungslinie wurde anhand von Referenzprodukten für Anwendungen in den Bereichen Mikrofluidik/Elektrophorese und Mikrooptik/ Wellenleiter erprobt.