Neue multiskalige Mess- und Prüfstrategien für die Produktion von Mikrosystemen
Konferenz: Mikrosystemtechnik Kongress 2005 - Mikrosystemtechnik Kongress 2005
10.10.2005 - 12.10.2005 in Munich, Germany
Tagungsband: Mikrosystemtechnik Kongress 2005
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Wiesendanger, T.; Osten, W. (Universität Stuttgart, Institut für Technische Optik, Pfaffenwaldring 9, 70569 Stuttgart, Deutschland)
Pannekamp, J.; Regin, J.; Westkämper, E. (Universität Stuttgart, Institut für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb, Nobelstraße 12, 70569 Stuttgart, Deutschland)
Inhalt:
Mit wachsender wirtschaftlicher Bedeutung von mikro- und nanostrukturierten Objekten nimmt die Forderung nach Verfahren zur umfassenden und wirtschaftlichen Charakterisierung enstprechender Funktionselemente zu. Existierende Messverfahren bewegen sich stets im Spannungsfeld zwischen Auflösungsvermögen und Messfeldgröße. Werden Sensoren in unterschiedlichen Auflösungsskalen durch intelligente, automatisierbare Messstrategien zusammengeführt, lassen sich die Vorteile der jeweiligen Sensorkonzepte optimal kombinieren [1]. Zielsetzung ist hierbei die multiskalige Erfassung, Charakterisierung und Prüfung von geometrischen und nichtgeometrischen funktionsrelevanten Kenngrößen im Mikro- und Nanobereich. Es werden Methoden für multiskalige Untersuchungen am Beispiel der Defekterkennung an Mikrolinsenarrays vorgestellt.